충북 영동 지역의 과학학습장을 활용한 토포필리아 야외지질학습 프로그램 개발
대한지구과학교육학회 대한지구과학교육학회지 제10권 제1호 2017.04 pp.76-89
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보령 지역의 후기 트라이아스기 아미산층에서 산출된 화석 강도래 (Plecoptera) 유충의 분류와 생태학적 의미
[Kisti 연계] 한국지구과학회 Journal of the Korean earth science society Vol.38 No.4 2017 pp.293-302
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포항시 우현동 두호층에서 산출된 Pleuronichthys sp. 화석
[Kisti 연계] 한국지구과학회 Journal of the Korean earth science society Vol.37 No.3 2016 pp.133-142
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후기 트라이아스기 아미산층에서 산출된 밑들이(Mesopsyche dobrokhotovae) 화석과 그 지질학적 의의
[Kisti 연계] 한국지구과학회 Journal of the Korean earth science society Vol.35 No.3 2014 pp.161-167
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HVOF용사 코팅한 SM490B 코팅층의 미시조직 특성
[Kisti 연계] 한국공작기계학회 한국공작기계기술학회지 Vol.14 No.5 2005 pp.80-86
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당뇨병성 신장질환 동물모델에 있어서 누에 추출물 주사에 의한 섬유화 유발인자 감소 효과
[Kisti 연계] 한국잠사학회 한국잠사학회 학술대회논문집 2002 p.57
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누에 고치색 유전자 발현의 다양성 검정 및 색채과학적 해석
[Kisti 연계] 한국잠사학회 한국잠사곤충학회지 Vol.41 No.1 1999 pp.20-28
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Traveling Wave Reactor Atomic Layer Epitaxy를 이용한 ZnS와 ZnS : Tb박막의 성장과 박막 특성의 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.7 No.1 1998 pp.51-58
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트렌티 식각시 식각 방지막의 형성과 이들이 결함 생성에 미치는 영향
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회지 Vol.8 No.7 1998 pp.634-640
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ALE로 성장한 ZnS:Tb ACTFEL 소자의 제작 및 특성
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 1998 p.128
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Al(Cu 1%) 플라트마 식각후 fluorine 처리에 의한 passivation 막 형성
[Kisti 연계] 대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics. D Vol.d35 No.1 1998 pp.27-33
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Al 합금막의 식각후 $CHF_3$ 처리에 의한 부식억제 효과
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.11 No.7 1998 pp.517-521
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Al(Cu 1%)막의 플라즈마 식각후 부식 억제를 위한 $SF_6$ 처리시 fluorine passivation 효과
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.11 No.3 1998 pp.203-207
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HF 세정후 자연 산화막의 존재가 티타늄 실리사이드 형성에 미치는 영향
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회지 Vol.8 No.5 1998 pp.464-469
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POCl$_{3}$ 도핑 및 비소 이온주입공정으로 제작한 높은 안정성을 갖는 다결정실리콘 저항소자 특성
[Kisti 연계] 대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics. D Vol.d35 No.7 1998 pp.56-62
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BCl$_3$/SF6 gas chemistries에 의한 TiW막의 식각특성 연구
[Kisti 연계] 대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics. D Vol.d34 No.3 1997 pp.1-8
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급속열질화에 의한 고압산화법으로 성장된 얇은 산화막의 특성개선
[Kisti 연계] 대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics. D Vol.d34 No.8 1997 pp.26-34
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실리콘 트렌치 식각 특성에 미치는 $He-O_2,\; SiF_4$첨가 가스의 영향
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.6 No.4 1997 pp.364-371
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