플렉서블 디스플레이 적용을 위한 저온 실리콘 질화막의 N<SUB>2 플라즈마 처리 영향
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.27 No.1 2014 pp.39-44
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MEMS 공정을 통한 마이크로 Pb(Zr,Ti)O<SUB>3 박막 압전 외팔보 에너지 수확소자의 제작 및 특성 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.26 No.11 2013 pp.831-835
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O<SUB>2 / Ar 플라즈마를 이용한 구리호일 표면 개질에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.26 No.11 2013 pp.836-840
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플렉서블 디스플레이의 적용을 위한 저온 실리콘 질화물 박막성장의 특성 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.26 No.11 2013 pp.816-820
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[Kisti 연계] 한국전산구조공학회 전산구조공학 Vol.25 No.1 2012 pp.19-26
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Effects of High Neutral Beam Energy on the Properties of Amorphous Carbon Films
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2012 p.477
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[Kisti 연계] 한국전산구조공학회 전산구조공학 Vol.25 No.5 2012 pp.397-404
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SF<SUB>6/Ar 유도결합플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.24 No.12 2011 pp.935-938
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ICP Source를 이용한 저온 증착 a-SiNx:H 특성 평가
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.24 No.7 2011 pp.532-536
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Ar/Cl<SUB>2 혼합가스를 이용한 Ba<SUB>2Ti<SUB>9O<SUB>20(BTO) 박막의 유도결합 플라즈마 식각
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.24 No.4 2011 pp.276-279
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나노임프린트 리소그래피 적용을 위한 CHF<SUB>3 플라즈마를 이용한 실리콘 몰드 표면 처리 특성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.24 No.10 2011 pp.790-793
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플라즈마 진단에 의한 PECVD SiO<SUB>2 증착의 불균일성 원인 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.24 No.2 2011 pp.89-94
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MEMS 공정을 이용한 마이크로 PZT 외팔보 에너지 수확소자의 제작 및 특성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.24 No.6 2011 pp.515-518
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유도결합형 BCl<SUB>3/Ar 플라즈마를 이용한 Al<SUB>2O<SUB>3 박막의 식각 특성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.24 No.6 2011 pp.445-448
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