다결정 실리콘의 선택적 성장을 이용한 깊은 트랜치 격리기술
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.11 No.4 2002 pp.235-239
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HF 세정후 자연 산화막의 존재가 티타늄 실리사이드 형성에 미치는 영향
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회지 Vol.8 No.5 1998 pp.464-469
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[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료 Vol.9 No.3 1996 pp.291-297
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고저항 실리콘 기판을 이용한 마이크로 웨이브 인덕터의 제작
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 1996 pp.291-294
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새로운 Pillar 제조 기법과 SOG etchback 평탄화 기법을 이용한 다층 배선기술
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 1995 pp.45-46
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아르곤 스퍼터링 방법을 이용한 PECVD 실리콘 산화막의 특성 향상
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 1995 pp.52-53
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[Kisti 연계] 한국전자통신연구원 전자통신동향분석 Vol.3 No.2 1988 pp.56-60
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