가스 주입구의 위치가 헬리콘 플라즈마 특성 및 산화막 식각에 미치는 영향
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1997 pp.207-208
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
MICP를 이용한 Platinum 건식 식각 특성에 관한 연구
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 1997 pp.279-281
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
UHVECRCVD에 의한 $600^{\circ}C$에서의 Si(100) 표면의 carburization 및 $eta$-SiC 형성
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1997 pp.39-40
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
벽형의 음극 전극과 보조 전극을 갖는 고효율 플라즈마 표시기의 최적 전극 구조에 관한연구
[Kisti 연계] 대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics. D Vol.d34 No.6 1997 pp.33-42
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
평면형 유도결합 플라즈마의 특성 및 선택적 산화막 식각 응용에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.6 No.1 1997 pp.91-96
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
고선택비 산화막 식각공정시 실리콘 표면에 형성된 잔류막 제거와 후속 실리사이드 형성에 미치는 영향에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 1997 p.105
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
MgO막의 제작 및 AC PDP 방전 특성에 미치는 영향
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1997 pp.221-222
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
RF 마그네트론 스퍼터링법을 이용한 MgO 박막의 특성에 관한 연구
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 1996 pp.206-208
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
3극 마그네트론 스팟터링 화학 기상 증착법에 의한 도전성 다이아몬드성 탄소 박막의 합성
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.29 No.3 1996 pp.149-156
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Opptimization of He-Xe Gas Mixture for pplasma Dispplay Panel
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1996 pp.152-153
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Effects of Bias Frequency on RIE Rag in Electron Cyclotron Resonance Plasma Etching System
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1996 pp.159-160
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Low-temperature Si epilayer growth by UHV-ECRCVD on LOCOS Patterned wafer
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1996 p.99
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
자화된 유도결합형 플라즈마 식각공정시 형성된 실리콘표면의 오염 및 손상에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1996 p.158
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
산소,질소가 첨가된 유도결합형 염소 플라즈마의 실리콘 식각 특성 비교
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1996 p.162
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
평판형 유도 결합 플라즈마에서 축방향 외부 자장이 용량 결합 성분에 미치는 영향
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1996 pp.164-165
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
UHV-ECRCVD에 의한 Si과 SiGe 에피막의 전기적 특성
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1996 pp.183-184
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
식각 용기 가열에 의한 라디칼 손실 제어가 고선택비 산화막 식각에 미치는 영향
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.5 No.2 1996 pp.169-174
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
HCD 이온 플레이팅법에 의해 증착된 MgO박막의 특성에 관한 연구
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 1996 pp.200-202
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
0개의 논문이 장바구니에 담겼습니다.
- 구매 불가 논문
-