고선택비 산화막 식각공정시 실리콘 표면에 형성된 잔류막 제거와 후속 실리사이드 형성에 미치는 영향에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 1997 p.105
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가스 주입구의 위치가 헬리콘 플라즈마 특성 및 산화막 식각에 미치는 영향
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1997 pp.207-208
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3극 마그네트론 스팟터링 화학 기상 증착법에 의한 도전성 다이아몬드성 탄소 박막의 합성
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.29 No.3 1996 pp.149-156
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Opptimization of He-Xe Gas Mixture for pplasma Dispplay Panel
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1996 pp.152-153
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자화된 유도결합형 플라즈마 식각공정시 형성된 실리콘표면의 오염 및 손상에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1996 p.158
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Effects of Bias Frequency on RIE Rag in Electron Cyclotron Resonance Plasma Etching System
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1996 pp.159-160
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산소,질소가 첨가된 유도결합형 염소 플라즈마의 실리콘 식각 특성 비교
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1996 p.162
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HCD 이온 플레이팅법에 의해 증착된 MgO박막의 특성에 관한 연구
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 1996 pp.200-202
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식각 용기 가열에 의한 라디칼 손실 제어가 고선택비 산화막 식각에 미치는 영향
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.5 No.2 1996 pp.169-174
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평판형 유도 결합 플라즈마에서 축방향 외부 자장이 용량 결합 성분에 미치는 영향
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1996 pp.164-165
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UHV-ECRCVD에 의한 Si과 SiGe 에피막의 전기적 특성
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1996 pp.183-184
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RF 마그네트론 스퍼터링법을 이용한 MgO 박막의 특성에 관한 연구
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 1996 pp.206-208
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Low-temperature Si epilayer growth by UHV-ECRCVD on LOCOS Patterned wafer
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1996 p.99
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다이아몬드성 탄소 박막의 전계 전자 방출 특성에 관한 연구
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 1996 pp.203-205
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유도결합형 플라즈마 식각 공정시 실리콘 표면의 잔류막 형성과 물리적, 전기적 손상 에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1995 p.100
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오메가트론을 이용한 ECR 수소 플라프마 내의 이온 검출
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 1995 pp.459-461
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