[Kisti 연계] 한국과학기술단체총연합회 과학과 기술 Vol.39 No.3 2006 pp.40-42
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RF Cylindrical Magentron 의 제조 및 이의 Reactive Ion Etching에 대한 응용
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 1992 p.63
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반도체 집적회로 공정에서 Plasma Etching의 기술동향
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1994 p.75
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[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.48 No.6 2015 pp.360-370
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대기압 플라즈마를 이용한 산화물 박막 트랜지스터 표면처리에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.48 No.1 2015 pp.7-10
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상압 플라즈마를 이용한 무기박막의 화학기상 증착법에 대한 연구동향
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.48 No.5 2015 pp.245-252
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Atmospheric Pressure Plasma를 이용한 Oxide Thin Film Transistor의 특성 개선 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2013 p.582
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60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive Coupled Plasma에서 Pulse-Time Modulation을 이용한 $SiO_2$의 식각특성
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2013 p.307
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III-V 화합물 반도체 Interface Passivation Layer의 원자층 식각에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2013 p.198
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원자층 식각방법을 이용한, Contact Hole 내의 Damage Layer 제거 방법에 대한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2013 p.244
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이중 주파수를 이용한 유도 결합형 플라즈마의 특성 분석
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2013 p.577
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All Carrier Ohmic-Contacts을 이용한 유기 발광 다이오드의 성능 향상 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2012 p.168
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Carbon 계 유기막질 Plasma Etching에 있어 COS (Carbonyl Sulfide) Gas 특성에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2012 p.460
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Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition을 이용한 SiOx 박막 형성
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2012 p.167
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원자층 식각을 이용한 Sub-32 nm Metal Gate/High-k Dielectric CMOSFETs의 저손상 식각공정 개발에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2012 p.463
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이중 주파수(Dual Frequency)를 이용한 유도결합 플라즈마 소스의 방전 특성에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2012 p.175
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Hydrogen Plasma와 Oxygen Plasma를 이용한 50 nm 텅스텐 패턴의 Oxidation 및 Reduction에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2012 p.288
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