입자 모델을 이용한 평판 마그네트론 스퍼터링 음극의 전자 운동 분석
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회 학술대회논문집 2008 p.17
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고밀도 유도 결합 플라즈마를 이용한 박막 증착 장치 개발
[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회논문집 2003 pp.26-30
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RF ppulse를 이용한 ICpp-Magnetron Spputtering pplasma 의 Ionization 효율 향상
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1998 p.191
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Network 환경하에서 Simulator를 이용한 반도체 공정 교육의 가능성
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1997 p.224
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Quadruppole Mass Filter를 이용한 Radical ion beam 추출
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1997 pp.199-200
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[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.45 No.4 2012 pp.174-180
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Very High Frequency Multi Hollow Cathode PECVD 장치의 수치모델링
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.19 No.5 2010 pp.331-340
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MgO 증착을 위한 유도결합 플라즈마 마그네트론 스퍼터링에서 실시간 공정 진단
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.38 No.2 2005 pp.73-78
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RFI ionized magnetron sputtering에서 radial uniformity 문제
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.6 No.1 1997 pp.85-90
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$SiH_4+H_2$ 대한 플라즈마 장치의 수치 모델링
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.410
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Numerical modeling of ICP with pulsed dc bias using CFD-ACE+
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회 학술대회논문집 2009 p.127
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Numerical modeling of ICP-nitriding system using CFD-ACE+
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회 학술대회논문집 2009 p.268
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수치모델을 이용한 pulsed dc bias ICP장치의 플라즈마 특성 해석
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.43 No.3 2010 pp.154-158
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3차원 입자 모델을 이용한 마그네트론 스퍼터링 음극의 특성 분석
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.41 No.5 2008 pp.205-213
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수치모델을 이용한 ICP-CVD 장치의 증착 균일도 해석
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.41 No.6 2008 pp.279-286
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[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.41 No.6 2008 pp.274-278
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산화막 식각 기구 연구를 위한 QMF Ion Beam 장치의 제작
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.37 No.4 2004 pp.220-225
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4MHz I-PVD장치에서 정합회로를 이용한 플라즈마 제어
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.8 No.1 1999 pp.75-82
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[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.52 No.3 2019 pp.171-179
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