교통재난 방지를 위한 성층권 비행선 기반의 재난상황공유 향상방안
한국ITS학회 한국ITS학회 학술대회 환상의 섬 제주도 가즈아~ 5G시대의 교통서비스 변화 2019.04 p.816
한국ITS학회 한국ITS학회 학술대회 환상의 섬 제주도 가즈아~ 5G시대의 교통서비스 변화 2019.04 pp.823-828
4,000원
※ 기관로그인 시 무료 이용이 가능합니다.
SBC 시스템 구성을 위한 단순한 구조를 가지는 고효율 무편광 유전체 다층박막 회절격자 설계
[Kisti 연계] 한국광학회 한국광학회지 Vol.31 No.4 2020 pp.169-175
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.32 No.2 2019 pp.147-150
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Cl2/HBr/CF4 반응성 이온 실리콘 식각 후 감광막 마스크 제거
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.23 No.5 2010 pp.353-357
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.22 No.12 2009 pp.1005-1008
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
BCl3/Cl2/Ar 플라즈마에서의 Na0.5K0.5NbO3 박막의 표면반응
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.41 No.6 2008 pp.269-273
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
CH4 플라즈마에 따른 TiN 박막 표면의 식각특성 연구
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.41 No.5 2008 pp.189-193
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
$CH_4$/Ar 플라즈마를 이용한 TiN 박막의 식각특성 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2008 pp.247-248
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Etching properties of sapphire substrate using $CH_4$/Ar inductively coupled plasma
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2008 p.102
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
$Ar/Cl_2$ plasma에서 $CH_4$ 첨가에 따른 BLT 박막의 식각특성 및 선택비 향상
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 2007 pp.1321-1322
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
$BCl_3/Ar$ 유도 결합 플라즈마 시스템에서 이온 에너지 분포에 따른 $HfO_2$ 박막의 식각
[Kisti 연계] 대한전기학회 電氣學會論文誌 Vol.56 No.2 2007 pp.349-354
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
$BCl_3$/Ar 유도 결합 플라즈마 시스템을 이용한 ZnO 박막의 식각 특성
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 2007 pp.1319-1320
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Transparent conducting ZnO thin films deposited by a Sol-gel method
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2007 p.320
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2007 pp.17-18
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
고밀도 플라즈마를 이용한 TaN/$HfO_2$ 게이트 구조의 식각 특성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2007 pp.158-159
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2007 pp.127-128
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2007 pp.140-141
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
0개의 논문이 장바구니에 담겼습니다.
- 구매 불가 논문
-