[Kisti 연계] 한국지열에너지학회 한국지열에너지학회논문집 Vol.3 No.1 2007 pp.1-9
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지열원 열펌프 시스템의 초기 커미셔닝 및 성능 측정에 관한 연구
[Kisti 연계] 대한설비공학회 대한설비공학회 학술대회논문집 2007 p.44
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[Kisti 연계] 대한설비공학회 대한설비공학회 학술대회논문집 2005 pp.205-210
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W-TiN 복층 전극 소자에서 TiN 박막 형성 조건에 따른 특성 분석
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.10 No.2 2001 pp.189-193
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MOS 소자를 위한 $HfO_3$게이트 절연체와 $WSi_2$게이트의 집적화 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2001 pp.832-835
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텅스텐 실리사이드를 차세대 게이트 전극으로 이용한 MOS 소자의 특성 분석
[Kisti 연계] 대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체 Vol.38 No.7 2001 pp.513-519
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W-TiN 금속 게이트를 사용한 금속-산화막-반도체 소자의 특성 분석
[Kisti 연계] 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회논문집 2000 pp.318-321
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LPCVD로 증착한 텅스텐 박막의 증착 조건 제어에 의한 접착성 및 저항 특성 향상
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.9 No.4 2000 pp.321-327
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금속-산화막-반도체 소자에서 대체 게이트 금속인 텅스텐 실리사이드의 특성 분석
[Kisti 연계] 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회논문집 2000 pp.64-67
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W/TiN 금속 게이트 MOS 소자의 물리.전기적 특성 분석
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2000 p.123
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금속-산화막-반도체(MOS) 소자에서의 전자주입에 따른 느린 준위의 전류 응답 특성 연구
[Kisti 연계] 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회논문집 1999 pp.216-219
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Characterizations of tungsten thin-film grown by LPCVD on SiO$_2$
[Kisti 연계] 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회논문집 1999 pp.883-886
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LPCVD로 성장된 텅스텐 게이트의 물리.전기적 특성 분석
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1999 p.151
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Fowler-nordheim 터널링 전자주입에 의한 질화 게이트 산화막의 특성 분석
[Kisti 연계] 대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics. D Vol.d35 No.7 1998 pp.79-87
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$N_2O$를 이용하여 질화된 MOS 소자 게이트 산화막의 전하포획 특성분석
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1998 p.36
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학습목표 지향성과 일중독 행동: 심리적 분리의 매개역할
[NRF 연계] 한국윤리경영학회 윤리경영연구 Vol.25 No.1 2025.07 pp.65-90
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업무 부하와 소진, 그리고 직무 만족: 결혼 만족의 조절 역할
[NRF 연계] 한국인사조직학회 인사조직연구 Vol.31 No.3 2023.08 pp.91-116
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[NRF 연계] 한국노동연구원 노동정책연구 Vol.20 No.4 2020.12 pp.149-196
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