간행물 정보
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- 제공처
- 한국과학기술정보연구원
- 발행기관
- 한국전기전자재료학회
- 수록기간
- 1988 ~ 2017
- 주제분류
- 공학 > 전기공학
Vol.12 No.10 (6건)
Chemical Mechanical Polishing 공정기술의 이해
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료 Vol.12 No.10 1999 pp.1-8
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
화학 Chemical Mechanical Polishing 공정변수의 이해
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료 Vol.12 No.10 1999 pp.9-18
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료 Vol.12 No.10 1999 pp.19-28
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료 Vol.12 No.10 1999 pp.29-33
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Non-Contact Post-CMP Cleaning에 대한 평가와 기존 Scrubber Cleaning과의 비교
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료 Vol.12 No.10 1999 pp.34-38
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
POST-CMP CLEANING USING A SINGLE WAFER MEGASONIC CLEANER
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료 Vol.12 No.10 1999 pp.39-43
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.