Dry Etching of Al2O3 Thin Films in O2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials Vol.11 No.5 2010 pp.202-205
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[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.22 No.12 2009 pp.1005-1008
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유도 결합 플라즈마를 이용한 TaN 박막의 건식 식각 특성 연구
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.42 No.6 2009 pp.251-255
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Metal 게이트 전극을 위한 TiN 박막의 건식 식각 특성
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.42 No.4 2009 pp.169-172
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Etching Property of the TaN Thin Film using an Inductively Coupled Plasma
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2009 p.104
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The etch characteristic of TiN thin films by using inductively coupled plasma
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2009 p.74
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Etch characteristics of ZnO thin films using an inductively coupled plasma
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2009 pp.135-136
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The surface kinetic properties of $ZrO_2$ Thin Films in dry etching by Inductively Coupled Plasma
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2009 p.105
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유도결합 플라즈마를 이용한 $HfAlO_3$ 박막의 식각특성 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2009 p.73
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Dry Etching of $Al_2O_3$ Thin Film in Inductively Coupled Plasma
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2009 p.67
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기판 온도에 따른 Cl2/BCl3/Ar 플라즈마에서 ZrO2 박막의 건식 식각
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.42 No.6 2009 pp.256-259
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[Kisti 연계] 한국정밀공학회 한국정밀공학회지 Vol.26 No.11 2009 pp.12-19
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[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.41 No.3 2008 pp.83-87
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Etch characteristics of TiN thin film adding $Cl_2$ in $BCl_3$/Ar Plasma
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2008 p.168
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BCl3/Cl2/Ar 플라즈마에서의 Na0.5K0.5NbO3 박막의 표면반응
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.41 No.6 2008 pp.269-273
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CH4 플라즈마에 따른 TiN 박막 표면의 식각특성 연구
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.41 No.5 2008 pp.189-193
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$CH_4$/Ar 플라즈마를 이용한 TiN 박막의 식각특성 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2008 pp.247-248
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[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2008 p.145
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BCl3/Ar 플라즈마에 Cl2 가스 첨가에 따른 TiN 박막의 식각 특성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.21 No.12 2008 pp.1051-1056
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$BCl_3$/Ar 플라즈마에 $Cl_2$ 가스 첨가에 따른 TiN 박막의 식각 특성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료 Vol.21 No.12 2008 pp.1051-1056
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