간행물 정보
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- 제공처
- 한국과학기술정보연구원
- 발행기관
- 한국재료학회
- 수록기간
- 1995
- 주제분류
- 공학 > 재료공학
Vol.2 No.e3 (18건)
[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e3 1995 pp.935-940
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e3 1995 pp.941-948
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Dielectric Properties of Pb($Fe_{2}3W_{1}3$) $O_{3}$ Based Relaxor Ferroelectrics
[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e3 1995 pp.949-955
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N-and P-MOSFETs woth CVD and Thermal Gate Oxides : Comparison of Performance and Reliability
[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e3 1995 pp.957-962
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PREPARATION OF SILICON OXIDE FILMS WITH HIGH WATER REPELLENCY BY RF PLASMA-ENHANCED CVD
[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e3 1995 pp.963-968
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[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e3 1995 pp.981-985
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HIGHLY DIELECTRIC AMORPHOUS Ti$O_2$ FILMS PREPARED IN AIR BY PLASMA CVD
[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e3 1995 pp.987-992
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[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e3 1995 pp.993-996
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[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e3 1995 pp.997-1002
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EFFECTS OF THE SUBSTRATE TEMPERATURE AND $O_2$/Ar RATIO ON THE PROPERTIES OF Ru$O_2$ FILMS
[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e3 1995 pp.1003-1007
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[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e3 1995 pp.1009-1014
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Preparation and Characterization of SrTiO$_{3}$ Thin Films by OMCVD
[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e3 1995 pp.1015-1020
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NITRIDATION OF LOW TEMPERATURE SILICON DIOXIDE USING RAPID THERMAL PROCESSING IN NITROGEN AMBIENT
[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e3 1995 pp.1021-1026
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[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e3 1995 pp.1031-1036
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IMPROVEMENT OF LEAKAGE CURRENT OF PZT THIN FILM BY AMORPHOUS LAYER
[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e3 1995 pp.1037-1042
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EFFECTS OF PLASMA TREATMENTS ON THE EROSION OF TEIS-BPSG FILMS BY CHEMICAL ETCHANTS
[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e3 1995 pp.1043-1049
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EFFECT OF Ti$O_2$ LAYER AT BST/pt INTERFACE
[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e3 1995 pp.1051-1056
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MOLECULAR DYNAMICS(MD) SIMULATION ON PRESSURE AND TEMPERATURE BEHAVIORS OF RUTILE
[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e3 1995 pp.1057-1062
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