Poly Si Wafer의 표면 특성변화에 따른 CMP 공정 후 오염 Mechanism의 규명
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2007 p.14
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CMP 공정에서 Diamond Disk와 Pad PCR 상관관계 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2006 pp.359-361
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[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2006 pp.51-54
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