[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회논문집 2008 pp.3-4
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반도체 제조공정에서 wafer의 warpage가 노광공정에 미치는 영향성
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2007 p.68
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차세대 반도체를 위한 탄소 나노튜브 (Carbon Nanotube) 기술
[Kisti 연계] 대한전자공학회 電子工學會誌 Vol.33 No.5 2006 pp.74-90
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[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2006 pp.51-54
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W CMP 공정에서 abrasive size 와 shape 영향성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2004 pp.243-246
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Ceria 입자 Oxide CMP에서의 연마 균일도 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2004 pp.120-124
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100nm 이하 Device에서의 CMP 기술의 문제점 및 향후 도전과제
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2004 pp.224-226
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100nm급 이하 소자에서 Deep Small Contact Hole Etching시 선택비와 RIE-lag 에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2002 pp.172-173
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산소 및 염소 플라즈마를 이용한 류테늄 미세패턴 식각특성
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2001 p.144
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TCP 장치에서 $Cl_2/He/HBr$을 이용한 Poly-Si 건식식각시 발생하는 진행성 etch rate 감소 현상 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1997 pp.227-228
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