[Kisti 연계] 대한전자공학회 Journal of semiconductor technology and science Vol.13 No.6 2013 pp.655-661
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La이 혼입된 고유전체/메탈 게이트가 적용된 나노 스케일 NMOSFET에서의 PBTI 신뢰성의 특성 분석
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.24 No.3 2011 pp.182-187
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Low-Frequency Noise 측정을 통한 Bottom-Gated ZnO TFT의 문턱전압 불안정성 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.23 No.7 2010 pp.545-549
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Strained-Si PMOSFET에서 디지털 및 아날로그 성능의 캐리어 방향성에 대한 의존성
[Kisti 연계] 대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체 Vol.47 No.8 2010 pp.23-28
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[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.23 No.6 2010 pp.431-435
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Hafnium Oxide를 Trapping Layer로 적용한 Fin-Type SOHOS 플래시 메모리 특성연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.23 No.6 2010 pp.449-453
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[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials Vol.10 No.2 2009 pp.35-39
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Nano-Scale CMOSFET에서 Contact Etch Stop Layer의 Mechanical Film Stress에 대한 소자특성 분석
[Kisti 연계] 대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체 Vol.45 No.4 2008 pp.57-63
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나노급 CMOSFET을 위한 니켈-코발트 합금을 이용한 니켈-실리사이드의 열안정성 개선
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.21 No.1 2008 pp.18-22
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Charge Pumping Method를 이용한 Silicon-Al2O3-Nitride-Oxide-Silicon Flash Memory Cell Transistor의 트랩과 소자
[Kisti 연계] 대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체 Vol.45 No.7 2008 pp.37-43
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Ge-MOSFETs을 위한 Ni-Co 합금을 이용한 Ni-germanide의 열안정성 개선
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.21 No.8 2008 pp.733-737
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SANOS 메모리 셀 트랜지스터에서 Tunnel Oxide-Si Substrate 계면 트랩에 따른 소자의 전기적 특성 및 신뢰성 분석
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2007 pp.94-95
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Nano-scale PMOSFET에서 Plasma Nitrided Oixde에 대한 소자 특성의 의존성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.20 No.7 2007 pp.569-574
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Nano-CMOSFET를 위한 플라즈마-질화막의 초기 산화막 성장방법에 따른 소자 특성과 저주파 잡음 특성 분석
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.20 No.1 2007 pp.1-7
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