Infrared Focal Plane Array 용 MEMS 구조체 개발
[Kisti 연계] 대한전기학회 電氣學會論文誌 Vol.56 No.8 2007 pp.1461-1465
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[Kisti 연계] 한국전자통신연구원 전자통신동향분석 Vol.20 No.6 2005 pp.62-69
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Novel GST/TiAlN 구조를 갖는 상변화 메모리 소자의 전기적 특성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2005 pp.118-119
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IT839 성장동력별 하드웨어 체계 및 핵심부품(part A)
[Kisti 연계] IT-SOC협회 IT SOC magazine Vol.5 2005 pp.12-29
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바이어스 스트레스에 의한 실리콘-게르마늄 이종접합 바이폴라 트랜지스터의 열화 현상
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.14 No.4 2005 pp.229-237
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유비쿼터스용 유니버설 메모리 기술(MRAM, FeRAM, PRAM)
[Kisti 연계] 한국전자통신연구원 전자통신동향분석 Vol.20 No.1 2005 pp.130-138
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[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2005 pp.203-204
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헬리콘 플라즈마를 이용한 $Ge_2Sb_2Te_5(GST)$ 상변화 재료의 식각 특성 검토
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2004 pp.203-206
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Sol-gel법에 의해 제조된 강유전체 $Bi_{3.15}La_{0.85}Ti_3O_{12}$ 박막의 결정 배향성 조절
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2003 pp.851-856
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[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료 Vol.16 No.12 2003 pp.10-19
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플라즈마 원자층증착법에 의해 제조된 강유전체 SrBi2Ta2O9박막의 특성
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2003 p.35
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새로운 졸겔 용액을 이용한 BLT박막의 배향성 조절 및 전기적 특성
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2002 p.50
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Cl2CF4/Ar 유도결합 플라즈마에 의해 식각된 SBT 박막의 표면 손상
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.15 No.7 2002 pp.570-575
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마이크로 소자용 Pb(Zr,Ti)$O_3$ 박막의 Helicon Plasma Source를 이용한 식각 공정 및 특성
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2002 p.217
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비휘발성 강유전체 메모리(FeRAM) 기술의 현황 및 전개 동향
[Kisti 연계] 대한전자공학회 電子工學會誌 Vol.29 No.8 2002 pp.92-101
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ONO 버퍼층을 이용한 Metal/Ferroelectrics/Insulator/Semiconductor 구조의 제작 및 특성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2002 pp.305-309
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마이크로 적외선 센서 제작을 위한 초전 박막의 Ion Milling 식각
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2002 p.36
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$CF_4$/Ar 플라즈마 내 $Cl_2$첨가에 의한 $SrBi_{2}Ta_{2}O_{9}$ 박막의 식각 특성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.14 No.9 2001 pp.714-719
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$Ar/CF_{4}/Cl_{2}$ 유도결합 플라즈마에 의한 SBT 박막의 표면 손상
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2001 pp.26-29
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