[Kisti 연계] 한국의학물리학회 Korean journal of medical physics Vol.13 No.3 2002 pp.156-162
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
$Al_{0.24}Ga_{0.76}As/GaAs$ 에피층에서의 표면 광전압에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.9 No.2 2000 pp.116-121
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Photoreflectance 측정에 의한 $In_xGa_{1-x}As(0.03\leqx\leq0.11)$ 에피층의 특성 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.7 No.4 1998 pp.334-340
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
아르곤 플라즈마로 처리한 n-GaAs의 표면특성에 관한 Photoreflectance 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.6 No.4 1997 pp.359-363
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
AlGaAs/GaAs multiple-quantum well에 대한 상온에서의 photoreflectance 특성연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.6 No.2 1997 pp.109-113
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Si이 첨가된 $Al_{0.33}Ga_{0.67}As$에서의 Electroreflectance에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료 Vol.10 No.7 1997 pp.692-699
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.5 No.3 1996 pp.218-222
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
As 이온이 주입된 단결정 실리콘(100)의 전기적 활성화 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.4 No.1 1995 pp.104-108
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Schottdy Barrier Height의 온도의존성에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회지 Vol.5 No.8 1995 pp.1020-1025
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Si이 고농도로 첨가된 GaAs의 photoreflectance에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회지 Vol.4 No.6 1994 pp.723-729
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
이온주입된 Si에서 도우펀트의 확산거동 및 결정성 회복
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.3 No.3 1994 pp.341-345
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
0개의 논문이 장바구니에 담겼습니다.
- 구매 불가 논문
-