유전종양간호 관련 연구경향: 텍스트 네트워크 분석을 중심으로
[Kisti 연계] 한국콘텐츠학회 한국콘텐츠학회논문지 Vol.18 No.2 2018 pp.47-56
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인공와우이식 아동의 운율 특성 - 조음속도와 쉼, 지속시간을 중심으로 -
[Kisti 연계] 한국음성학회 말소리와 음성과학 Vol.4 No.4 2012 pp.117-127
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인공와우이식 아동의 운율 특성 - 발화속도와 억양기울기를 중심으로 -
[Kisti 연계] 한국음성학회 말소리와 음성과학 Vol.3 No.3 2011 pp.157-165
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[Kisti 연계] 한국대기환경학회 한국대기환경학회 학술대회논문집 2010 pp.203-204
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[Kisti 연계] 한국전자통신연구원 전자통신동향분석 Vol.23 No.6 2008 pp.38-47
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Excimer laser annealing에 의한 결정화 및 High-k Gate-dielectric을 사용한 poly-Si TFT의 특성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2007 p.19
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레이저 결정화 방법을 적용한 3차원 적층 CMOS 인버터의 전기적 특성 개선
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2007 pp.118-119
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나노급 CMOSFET을 위한 SOI기판에 도핑된 B1l을 이용한 니켈-실리사이드의 열안정성 개선
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.19 No.11 2006 pp.1000-1004
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SOI 기판에서 Silicide의 후속 공정 열처리 영향에 대한 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2006 pp.3-4
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나노급 CMOSFET을 위한 SOI기판에 Doping된 B11을 이용한 Ni-Silicide의 열안정성 개선
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2006 pp.24-25
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나노급 CMOSFET을 위한 SOI 기판에서의 Ni/Co 증착 두께에 따른 Nickel silicide 특성 분석
[Kisti 연계] 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회논문집 2005 pp.619-622
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Nano-scale CMOS에 적용하기 위한 Ni-Germanosilicide에서 Ni-Pd 합금을 이용한 Ni-Germanosilicide의 열안정성 향상
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2005 pp.31-32
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Co-interlayer와 $SiO_2$ 상부막의 유무에 따른 Nickel Germanosilicide의 열안정성 연구
[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회논문집 2005 pp.215-218
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니켈 실리사이드의 열안정성에 대한 실리카 상부막과 코발트 중간막의 영향
[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 반도체디스플레이기술학회지 Vol.4 No.2 2005 pp.7-10
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[Kisti 연계] 대한인간공학회 Journal of the ergonomics society of Korea Vol.24 No.1 2005 pp.27-35
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Shallow S/D Junction에 적용 가능한 NiSi를 형성하기 위한 Ni-Pd 합금의 특성 연구
[Kisti 연계] 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회논문집 2005 pp.603-606
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Nano-scale CMOS에 적용하기 위한 Ni-Ta 합금을 이용한 Ni-Germanosilicide의 열안정성 개선
[Kisti 연계] 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회논문집 2005 pp.607-610
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[Kisti 연계] 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회논문집 2004 pp.391-394
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