Study on the Formation of SiOC Films and the Appropriate Annealing Temperature
[Kisti 연계] 한국해양정보통신학회 International journal of maritime information and communication sciences Vol.9 No.2 2011 pp.217-219
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Electrical properties of u/TaN/SiOC(-H)/p-Si(100) low-k dielectric stack
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2008 p.156
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후 열처리에 따른 저유전율 SiOC(-H) 박막의 특성 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2007 p.261
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A Study for Properties of SiOC(-H) Thin Films with $Low-{\kappa}$ Formed by UV-Assisted PECVD Method
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2007 p.245
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Fluorine 첨가에 의한 F-doped SiOC : H 박막의 저 굴절률 특성
[Kisti 연계] 한국결정성장학회 한국결정성장학회지 Vol.17 No.2 2007 pp.47-51
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The Chemical Structure of a-SiOC:H Films Prepared by PECVD Using the Double Bubbler Systems
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2007 p.55
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Evaluation of ultra low dielectric constant SiOC(-H) thin films for advanced interconnects
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2008 p.277
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Flexural Strength of Polysiloxane-Derived Strontium-Doped SiOC Ceramics
[Kisti 연계] 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 Vol.52 No.1 2015 pp.61-65
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CH4 농도 변화가 저유전 SiOC(-H) 박막의 유전특성에 미치는 효과
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회지 Vol.19 No.2 2009 pp.90-94
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Plasma parameters of the low dielectric constant SiOC(-H) thin films during the PECVD process
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2008 p.349
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Electric field induced second harmonic generation in SiOC(-H) thin films
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2008 p.154
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Processing and Properties of Closed-Cell, Microcelluloer SiOC Foams
[Kisti 연계] 한국세라믹학회 한국세라믹학회 학술대회논문집 2004 p.43
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[Kisti 연계] 대한화학회 Bulletin of the Korean Chemical Society Vol.30 No.2 2009 pp.467-470
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Interface characterization and current conduction in low-k SiOC(-H) thin films
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2008 p.155
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Analysis of FTIR Spectra in Organic Inorganic Hybrid Type SiOC Films
[Kisti 연계] 대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체 Vol.42 No.6 2005 pp.17-22
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The study of post annealing effects on low dielectric constant SiOC films
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2009 p.223
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