후 열처리에 따른 저유전율 SiOC(-H) 박막의 특성 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2007 p.261
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[Kisti 연계] 한국정보처리학회 한국정보처리학회 학술대회논문집 2005 pp.193-196
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TCPCVD방법에 의해 형성된 SIOC(-H)박막의 형성과 특성에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2005 p.99
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[Kisti 연계] 한국광학회 한국광학회지 Vol.16 No.6 2005 pp.560-564
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VOD 시스템을 위한 P2P 프록시 기반의 효율적인 패칭 기법
[Kisti 연계] 한국정보처리학회 한국정보처리학회 학술대회논문집 2004 pp.221-224
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마이크로파 플라즈마 화학기상증착법에 의한 HOD 박막 성장
[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 반도체디스플레이기술학회지 Vol.3 No.3 2004 pp.45-50
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BTMSM/$O_2$의 혼합된 precursor를 사용한 nano-pore의 유무기 하이브리드 구조 저유전 박막의 특성분석
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2002 p.130
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HDP-CVD 방법으로 증착한 Si-O-C(-H) 박막의 구조분석
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2002 p.128
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공초점 광학현미경에서의 side-lobe 감소방안에 대한 연구
[Kisti 연계] 한국광학회 한국광학회지 Vol.12 No.5 2001 pp.356-361
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CVD법에 의한 Low Dielectric Inorganic Materials 제조 및 특성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료 Vol.13 No.10 2000 pp.12-19
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O2/FTES-ICPCVD 방법에 의한 Fluorocarbonated-$SiO_2$ 박막형성
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1999 p.105
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ICP-CVD 방법에 의한 TiN diffusion Barrier Thin Film 형성
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1999 p.118
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FTES/$O_2$-PECVD 방법에 의한 SiOF 박막형성
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회지 Vol.9 No.8 1999 pp.825-830
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고밀도 플라즈마 CVD 방법에 의한 TiN barrier metal 형성과 특성
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회지 Vol.9 No.11 1999 pp.1129-1136
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PVD 방법에 의한 $TiN/TiSi_2$-bilayer 형성
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회지 Vol.8 No.12 1998 pp.1182-1189
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고상 에피택시에 의한 초박막 $CoSi_2$ 형성과 $Si/epi-CoSi_2/Si$(111)의 이중헤테로 에피택셜 성장
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회지 Vol.8 No.2 1998 pp.165-172
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