Characteristics of Al Doped ZnO Thin Film by Modulated Pulsed Power Magnetron Sputtering
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2012 p.430
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[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.45 No.4 2012 pp.174-180
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Enhancement of Electrical and Optical Properties of AZO Thin Film Fabricated by Magnetron Sputtering
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2012 p.168
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300 mm 웨이퍼용 식각 장비에서 병렬 안테나의 전류비 조절에 의한 식각 균일도 측정
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회 학술대회논문집 2011 p.155
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플라즈마 보조 전자빔 정련을 이용한 Si내의 불순물 제거
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2011 p.286
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SiO2 식각 시 CF4+Ar 혼합비에 따른 플라즈마 내의 화학종 분석
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2011 pp.238-239
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수치모델과 고속 CCD 카메라를 이용한 세변기 표면 처리 효과 특성 해석
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.44 No.1 2011 pp.32-37
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플라즈마에 의한 웨이퍼 가열과 Si 식각 속도의 변화 모델링
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2011 p.291
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300 mm 웨이퍼용 장치에서 펄스 바이어스가 인가된 고밀도 유도결합 플라즈마의 수치 계산
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회 학술대회논문집 2011 p.112
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유도 결합 플라즈마 보조 스퍼터링 장치의 기술적 발전 과제
[Kisti 연계] 한국정보디스플레이학회 인포메이션 디스플레이 Vol.12 No.5 2011 pp.27-32
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2D-ICP(inductively coupled plasma)에서 정전 탐침 삽입 시의 플라즈마 수치 계산
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.44 No.1 2011 pp.26-31
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마이크로파 Plasma 탄소 섬유 처리 장치에서 입력 전력에 따른 온도 변화
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회 학술대회논문집 2011 p.162
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ICP 식각 장치에서 GDP 구조 및 유량비율에 의한 플라즈마 균일도 최적화에 대한 수치해석
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2011 p.280
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단순 연소법으로 합성한 LiNi0.5Mn0.3Co0.2O2 양극 활물질의 구조 분석 및 전기화학적 특성 연구
[Kisti 연계] 한국전기화학회 전기화학회지 Vol.13 No.4 2010 pp.264-269
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450 mm 웨이퍼 공정용 System의 기하학적 구조에 따른 플라즈마 균일도 모델링 분석
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.19 No.3 2010 pp.190-198
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내장형 무선 카메라를 이용한 ICP 보조 스퍼터링 장치의 실시간 모니터링
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.476
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$SiH_4+H_2$ 대한 플라즈마 장치의 수치 모델링
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.410
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In-line sputtering system에서 Al:ZnO 막의 대면적 증착시 가스 유동의 영향
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.194
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내장형 무선 카메라를 이용한 high vacuum system 내부 실시간 모니터링
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.116
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