텅스텐 화학적-기계적 연마 공정에서 부식방지막이 증착된 금속 컨디셔너 표면의 전기화학적 특성평가
[Kisti 연계] 한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 Vol.19 No.1 2012 pp.61-66
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미세금형 가공을 위한 전기화학식각 공정의 유한요소 해석 및 실험결과 비교
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회지 Vol.22 No.9 2012 pp.482-488
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UV 나노임프린트 리소그래피의 Quartz 기판상의 Resin mold 제거를 위한 Hybrid 세정공정에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2012 p.81
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미세금형 가공을 위한 전기화학식각공정의 유한요소 해석 및 실험 결과 비교
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2012 p.81
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유기물 제거를 위한 Post Cu CMP 세정 용액 개발
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2011 p.32
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CMP 컨디셔닝 공정에서의 부식방지를 위한 자기조립 단분자막의 적용과 표면특성 평가
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2011 p.33
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ILD CMP 공정에서 실리콘 산화막의 기계적 성질이 Scratch 발생에 미치는 영향
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2011 p.23
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반도체 세정 공정용 가스 클러스터 장비의 클러스터 발생 특성 분석
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2011 p.39
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The Evaluation of Ceria Slurry for Blank Mask Polishing for Photo-lithography Process
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2011 p.37
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반도체 세정 공정용 가스 클러스터 장치 내 발생 클러스터 크기 분포에 관한 수치해석적 예측
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2011 p.40
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알칼리성 슬러리를 이용한 단결정 및 다결정 실리콘의 화학적 기계적 연마 특성 평가
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2011 p.24
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친환경 평판 디스플레이 세정을 위한 $CO_2$ Snow Jet 세정공정 개발에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2011 p.66
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이류체 노즐을 이용한 FPD 세정시스템 및 공정개발에 대한 연구
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2010 p.58
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CMP Conditioner의 오염방지를 위한 V-SAM 공정개발과 박막특성 분석
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2009 p.56
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반도체 세정액 내 용존 수소 가스가 웨이퍼 세정에 미치는 영향
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2009 p.26
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ILD CMP중 Scratch 감소를 위한 CMP 공정기술 개발
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2009 p.59
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Ru barrier metal을 위한 CMP 슬러리의 CMP 거동 관찰
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2009 p.57
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레이저 유기 충격파를 이용한 나노 Trench 에서의 나노입자제거
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2009 p.25
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Reevaluation of hydrogen gas dissolved cleaning solutions in single wafer megasonic cleaning
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2009 p.34
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자기조립박막 증착법을 이용한 영구적인 친수성 표면의 플루이딕스칩 제작에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2009 p.49
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