Silane Gas를 이용한 Medium Temperatrue Oxide Thin Film의 특성
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 1992 pp.156-157
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
실란가스를 이용한 회전 반도체 웨이퍼로의 실리콘 박막 증착 수치해석
[Kisti 연계] 대한설비공학회 대한설비공학회 학술대회논문집 2007 p.209
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