Silicon trench etching using inductively coupled Cl2/O2 and Cl2/N2 plasmas
[Kisti 연계] 한국진공학회 The Journal of Korean vacuum science & technology Vol.2 No.2 1998 pp.122-132
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[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회지 Vol.3 No.5 1993 pp.482-496
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