Ceria 입자 Oxide CMP에서의 연마 균일도 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2004 pp.120-124
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[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2003 pp.304-307
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[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2003 pp.158-161
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구리 CMP 공정시 계면활성제 첨가 조건에 의한 슬러리 특성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2003 pp.166-169
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Roles of Phosphoric Acid in Slurry for Cu and TaN CMP
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials Vol.4 No.2 2003 pp.1-4
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[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2003 pp.162-165
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