MOCVD를 이용하여 증착시킨 Hafnium Oxide 박막의 전기적 특성연구
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2002 p.59
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
$H_2O$ plasma를 이용한 $SrTiO_3$ Atomic Layer Deposition
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2002 p.80
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$Hf[N(CH_3)_2]_4$ precursor를 이용한 $HfO_2$ 박막의 성장 기구와 전기적 성질에 관한 고찰
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2002 p.103
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MOCVD를 이용한 Hafnium Oxide 박막 증착
[Kisti 연계] 한국마이크로전자및패키징학회 한국마이크로전자및패키징학회 학술대회논문집 2002 pp.198-202
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단원자증착법을 이용한 $SrTiO_3$ 박막의 증착 및 특성 평가
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2001 p.70
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ALD방법으로 증착한 $HfO_2$ 박막의 성장기구와 전기적 성질에 관한 고찰
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2001 p.68
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