저온에서 AlGaN/GaN HEMT의 전기적 특성 변화
[Kisti 연계] 한국전기전자학회 Journal of IKEEE Vol.22 No.2 2018 pp.344-349
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
결정질 실리콘 태양전지 응용을 위한 SiNx 및 SiO2 박막의 패시베이션 특성 연구
[Kisti 연계] 한국결정성장학회 한국결정성장학회지 Vol.24 No.1 2014 pp.41-45
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
N-type 결정질 실리콘 태양전지 응용을 위한 Al2O3 박막의 패시베이션 특성 연구
[Kisti 연계] 한국결정성장학회 한국결정성장학회지 Vol.24 No.3 2014 pp.106-110
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
SiGe 에피 공정기술을 이용하여 제작된 초 접합 금속-산화막 반도체 전계 효과 트랜지스터의 시뮬레이션 연구
[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 반도체디스플레이기술학회지 Vol.13 No.3 2014 pp.45-50
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
ICP 표면 처리된 Si 기판 위에 성장된 Ge 층의 초기 성장 상태 연구
[Kisti 연계] 한국결정성장학회 한국결정성장학회지 Vol.21 No.4 2011 pp.153-157
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
[Kisti 연계] 한국세라믹학회 세라미스트 Vol.14 No.4 2011 pp.44-49
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
InAs 양자점을 이용하여 Silicon (001) 기판위에 제작된 고품질 InSb layer의 특성 분석
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.110
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Investigation of Al Back Contact and BSF Formation by In-situ TEM for Silicon Solar Cells
[Kisti 연계] 한국신재생에너지학회 한국신재생에너지학회 학술대회논문집 2010 p.38
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
SiGe/Si/SiGe Channel을 이용한 JFET의 전기적 특성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.22 No.11 2009 pp.905-909
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.22 No.11 2009 pp.910-917
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Cr capping layer를 이용한 n-Ge(100) 기판에서의 Ti germanide 형성과 특성에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2009 p.154
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
금속 접합을 이용한 쇼트키 장벽 트랜지스터의 동작 특성에 미치는 기판 결함의 영향
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2009 p.181
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Ultrathin-Body (UTB) Strained-Si-on-Insulator (sSOI)에서 채널두께에 MOSFET 따른 전자이동도 변화
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2008 p.107
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
ELA 결정화와 SPC 결정화를 이용한 쇼트키 장벽 다결정 실리콘 박막 트랜지스터
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2008 pp.129-130
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
플레티늄-실리사이드를 이용한 쇼트키 장벽 다결정 박막 트랜지스터트랜지스터
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2008 pp.80-81
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Ti capping layer를 이용한 열적으로 안정한 NiGe 형성에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2008 p.138
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Pseudo-MOSFET을 이용한 nano-sSOI 기판의 특성 평가
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2007 pp.11-12
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
0개의 논문이 장바구니에 담겼습니다.
- 구매 불가 논문
-