[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.41 No.6 2008 pp.274-278
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Radio Frequency Inductively Coupled Plasma를 이용한 High Ionization Sputtering 장치의 제작
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1997 p.215
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3차원 입자 모델을 이용한 마그네트론 스퍼터링 음극의 특성 분석
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.41 No.5 2008 pp.205-213
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RFI ionized magnetron spputtering을 이용한 Al, Cu, Ag 박막의 제작
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1997 p.203
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[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.45 No.4 2012 pp.174-180
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[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.52 No.3 2019 pp.171-179
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MgO 증착을 위한 유도결합 플라즈마 마그네트론 스퍼터링에서 실시간 공정 진단
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.38 No.2 2005 pp.73-78
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Internal ICP source의 공정 특성과 3차원 수치 모델링
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2009 p.83
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UHV용 유도결합 플라즈마 라디칼건에서 $N_2$의 분해도 측정
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회 학술대회논문집 2003 p.26
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수치모델을 이용한 ICP-CVD 장치의 증착 균일도 해석
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.41 No.6 2008 pp.279-286
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Numerical modeling of ICP-nitriding system using CFD-ACE+
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회 학술대회논문집 2009 p.268
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유도결합 플라즈마 스퍼터링 장치에서 MgO의 반응성 증착 시 공정 진단
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.45 No.5 2012 pp.206-211
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유도결합 플라즈마 시스템의 수치 모델링에서 가스 분배 특성 해석
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.46 No.3 2013 pp.133-138
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Very High Frequency Multi Hollow Cathode PECVD 장치의 수치모델링
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.19 No.5 2010 pp.331-340
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Network 환경하에서 Simulator를 이용한 반도체 공정 교육의 가능성
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1997 p.224
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유도 결합 플라즈마 보조 스퍼터링 장치의 기술적 발전 과제
[Kisti 연계] 한국정보디스플레이학회 인포메이션 디스플레이 Vol.12 No.5 2011 pp.27-32
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RFI ionized magnetron sputtering에서 radial uniformity 문제
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.6 No.1 1997 pp.85-90
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$SiH_4+H_2$ 대한 플라즈마 장치의 수치 모델링
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.410
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CFD를 이용한 내장형 안테나 유도 결합 플라즈마 시스템 모델링
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.18 No.3 2009 pp.164-175
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