Si 기판에서 원자층 화학 기상 증착법으로 제조된 Al2O3 및 ZrO2 유전 박막의 결정학적 특성 및 계면 구조 평가
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회지 Vol.13 No.8 2003 pp.497-502
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Thermodynamic Stability and Interface Chemical Reaction in $HfO_2$ Laminate Films
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2003 p.125
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Reactive sputtering 방법으로 증착된 W nitride 박막의 특성
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.11 No.1 2002 pp.22-27
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ALD 법으로 증착한 $Al_2O_3$ 및 $ZrO_2$ 박막의 결정학적 특성 평가
[Kisti 연계] 한국현미경학회 한국현미경학회 학술대회논문집 2000 pp.39-43
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XPS를 이용한 TiN/Cu의 Grain boundary diffusion 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.7 No.2 1998 pp.112-117
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이온 보조 반응법을 이용하여 처리된 Polyimide Film 표면과 그위에 증착된 Cu Film의 초기상태에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1997 p.78
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[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.6 No.4 1997 pp.314-320
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