나노임프린트 리소그래피 적용을 위한 CHF3 플라즈마를 이용한 실리콘 몰드 표면 처리 특성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.24 No.10 2011 pp.790-793
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
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