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영어

Silica compounds such as Trimethylsilanol (TMS) used in the photolithography area of semiconductor manufacture processing have irreversible dramatic impact on optical lenses used on photolithography tools. Here, a Proton Transfer Reaction-Time of Flight Mass Spectrometer (PTR-ToFMS) was applied for real-time and continuous monitoring of TMS contamination induced by the fabrication process. TMS measurements by various electronic field (E/N) were carried out using the PTR-ToFMS in order to fix the analysis condition. The TMS mass mass spectrum was determined by varying the E/N value of the PTR-ToFMS ion drift tube. The ratio of the measured ion (C3H11OSi+) was influenced according to the E/N value and optimal analysis condition of TMS was around 100 Td.

한국어

반도체 포토리소그래피 공정에서 사용되는 Trimethylsilanol(TMS)과 같은 실리카 화합물은 포토리소그래피에 사용되 는 광학 렌즈에 심각한 영향을 미친다. 본 연구에서는 TMS 실시간으로 모니터링하기 위해 양자전이 비행시간 질량분석 기(PTR-ToFMS)를 적용하였으며, 분석 조건을 설정하기 위하여 PTR-ToFMS의 다양한 전장강도(E/N) 값에서 TMS를 측 정하였다. 그 결과 TMS 질량스펙트럼은 PTR-ToFMS 이온이동도관의 E/N 값을 변화시킴으로써 결정되었다. 측정된 이 온(C3H11OSi+)의 비율은 E/N 값에 영향을 받았고, TMS의 최적 분석 조건은 약 100 Td 이었다.