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Rigorous coupled-wave analysis를 이용한 극자외선 리소그래피에서 그림자 효과를 줄이기 위한 마스크 변형

원문정보

Mask modification for the shadow effect reduction by Rigorous coupled-wave analysis in extreme ultraviolet lithography

최민기, 신동수, 오혜근

한양대학교 이학기술연구소 이학기술연구지 제8집 2005.12 pp.43-47
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목차

요지
 Abstract
 1. Introduction
 2. Theory
 3. Simulation
 4. Conclusion
 References

저자정보

  • 최민기 Min-Ki Choi. 한양대학교 응용물리학과
  • 신동수 Dong-Soo Shin. 한양대학교 응용물리학과
  • 오혜근 Hye-Keun Oh. 한양대학교 응용물리학과

참고문헌

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