Rigorous coupled-wave analysis를 이용한 극자외선 리소그래피에서 그림자 효과를 줄이기 위한 마스크 변형
한양대학교 이학기술연구소 이학기술연구지 제8집 2005.12 pp.43-47
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극자외선 라소그래피에서 마스크 결함에 의한 이미지 특징
한양대학교 이학기술연구소 이학기술연구지 제7집 2004.12 pp.65-72
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거친 표면을 가진 흡수체와 버퍼의 측면에 의한 극자외선 산란효과
한양대학교 이학기술연구소 이학기술연구지 제6집 2003.12 pp.77-81
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패턴 Top Rounding 효과를 고려한 패턴 붕괴 전산모사
한양대학교 이학기술연구소 이학기술연구지 제5집 2002.09 pp.129-134
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193nm 용 화학 증폭형 감광재의 노광 후 열처리 과정 중 두께변화에 관한 연구
한양대학교 이학기술연구소 이학기술연구지 제3집 2001.02 pp.73-78
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193 nm 용 화학 증폭형 감광재 시뮬레이션을 위한 노광 후 지연 효과에 대한 연구
한양대학교 이학기술연구소 이학기술연구지 제3집 2001.02 pp.79-84
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양성 감광제에서 여러 가지 나노 / 마이크로구조 제작을 위한 시뮬레이션
[Kisti 연계] 한국광학회 한국광학회 학술대회논문집 2009 pp.58-59
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Mueller Matrix Ellipsometry 제작 및 응용
[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 반도체디스플레이기술학회지 Vol.3 No.1 2004 pp.31-34
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Retardance Measurements Using Rotating Sample and Compensator Spectroscopic Ellipsometry
[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회논문집 2004 pp.169-173
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Rotating Compensator Spectroscopic Ellipsometer의 개발 및 응용
[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 반도체디스플레이기술학회지 Vol.2 No.2 2003 pp.1-4
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Muller matrix ellipsometry 제작 및 응용
[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회논문집 2003 pp.12-17
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Ellipsometry에서의 Calibration 및 입사면 고정형 Ellipsometer
[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 반도체디스플레이기술학회지 Vol.2 No.4 2003 pp.23-26
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