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노광 과정동안 감광제의 실수 굴절률 변화에 대한 분석

원문정보

Analysis of the Photoresist Real Refractive Index n Change during Exposure

오진경, 오혜근

한양대학교 이학기술연구소 이학기술연구지 제1집 1999.12 pp.105-109
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목차

요지
 Abstract
 1. 서론
 2. 방법
 3. 결과
 4. 고찰 및 결론
 참고문헌

저자정보

  • 오진경 Jin-kyung Oh. 한양대학교 이과대학 물리학과
  • 오혜근 Hye-keun Oh. 한양대학교 이과대학 물리학과

참고문헌

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