[Kisti 연계] 한국컴퓨터정보학회 Journal of the Korea society of computer and information Vol.22 No.12 2017 pp.171-178
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[Kisti 연계] 대한화학회 Bulletin of the Korean Chemical Society Vol.34 No.9 2013 pp.2563-2564
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Ge 기판 위에 HfO2 게이트 산화물의 원자층 증착 중 In Situ 질소 혼입에 의한 전기적 특성 변화
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.19 No.1 2010 pp.14-21
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High Quality Nickel Atomic Layer Deposition for Nanoscale Contact Applications
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2009 p.22
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