Plasma Assisted ALD 장비를 이용한 니켈 박막 증착과 Ti 캡핑 레이어에 의한 니켈 실리사이드 형성 효과
[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 반도체디스플레이기술학회지 Vol.6 No.3 2007 pp.19-23
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Device Characteristics of AlGaN/GaN MIS-HFET using $Al_2O_3$ Based High-k Dielectric
[Kisti 연계] 대한전자공학회 Journal of semiconductor technology and science Vol.5 No.2 2005 pp.107-112
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Pt/AlGaN Schottky-Type UV Photodetector with 310nm Cutoff Wavelength
[Kisti 연계] 한국센서학회 Journal of sensor science and technology Vol.12 No.2 2003 pp.66-71
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