플라즈마 진단에 의한 PECVD SiO2 증착의 불균일성 원인 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.24 No.2 2011 pp.89-94
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HBr/Ar/CHF3 혼합가스를 이용한 ZnO 박막의 유도결합 플라즈마 식각
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.23 No.12 2010 pp.915-918
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O2 플라즈마 바이어스 파워에 따른 유기 박막의 표면 특성 변화 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2009 p.57
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The study on the $SiO_2$ film non-uniformity by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2008 p.73
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