21세기 화학공학 교육 재건과 특성화를 위한 ChEER-UP 프로그램
[Kisti 연계] 한국공학교육학회 공학교육 Vol.18 No.4 2011 pp.34-37
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플라즈마 원자층 증착 방법을 이용한 N-doped ZnO 나노박막의 구조적.광학적.전기적 특성
[Kisti 연계] 한국화학공학회 Korean chemical engineering research Vol.49 No.3 2011 pp.357-360
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하전입자의 분포에 따른 Electrowetting display의 오일의 움직임
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2006 pp.495-496
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[Kisti 연계] 한국고무학회 Elastomers and composites Vol.39 No.1 2004 pp.71-76
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실리콘을 이용한 수트리 열화된 전력 케이블의 절연 보강
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2003 pp.468-471
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ICP 식각 시스템에 의한 YBCO 초전도 박막의 식각두께 변화에 따른 특성 분석
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2003 pp.259-262
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Pt/AlGaN Schottky-Type UV Photodetector with 310nm Cutoff Wavelength
[Kisti 연계] 한국센서학회 Journal of sensor science and technology Vol.12 No.2 2003 pp.66-71
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[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.16 No.5 2003 pp.424-428
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Pt 전극을 이용한 ${Al_0.33}{Ga_0.67}N$ 쇼트키형 자외선 수광소자의 동작특성
[Kisti 연계] 대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체 Vol.40 No.7 2003 pp.486-493
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플라즈마 식각을 이용한 초전도 자속 흐름 트랜지스터 제작
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2002 pp.74-77
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새로운 ICP 장치를 이용한 고온 초전도체의 Dry Etching과 기존의 Wet Etching 기술과의 비교
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.14 No.2 2001 pp.158-162
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ICP 장치를 이용한 초전도 자속 흐름 트랜지스터의 링크 제작
[Kisti 연계] 대한전기학회 전기학회논문지. The transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers. C/ C, 전기물성·응용부문 Vol.50 No.10 2001 pp.494-499
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Chemical Modification of Skeletonized Vesicles via Hydrolysis
[Kisti 연계] 대한화학회 Bulletin of the Korean Chemical Society Vol.22 No.12 2001 pp.1291-1292
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[Kisti 연계] 대한화학회 Bulletin of the Korean Chemical Society Vol.21 No.11 2000 pp.1145-1148
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$Cl_2$-ICP를 이용한 Doped GaN 식각의 공정변수적 연구
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 1999 p.70
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플라즈마 MOCVD를 이용한 $SrTiO_3$ 박막 증착 메카니즘
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 1999 p.132
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$Cl_2$, ICl 및 IBr 유도병합 플라즈마를 이용한 InN/AlN/GaN 계의 선택적 식각
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 1999 p.69
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