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양자점 디스플레이 기술의 현재와 미래

이창민, 이우석, 채희엽

[Kisti 연계] 한국진공학회 진공 이야기 Vol.4 No.2 2017 pp.29-35

그래핀 소재의 개발 현황

채희엽

[Kisti 연계] 한국진공학회 진공 이야기 Vol.2 No.2 2015 pp.46-48

다변량 분석기법을 통한 플라즈마 공정 모니터링 기술

장해규, 고경범, 이호녕, 채희엽

[Kisti 연계] 한국진공학회 진공 이야기 Vol.2 No.4 2015 pp.27-32

Plasma Impedance Monitoring with Real-time Cluster Analysis for RF Plasma Etching Endpoint Detection of Dielectric Layers

장해규, 채희엽

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2013 p.123

(CyOz)-SiHx 전구체로 중착된 저유전상수 유동박막의 산소 분압에 따른 특성 연구

이채민, 오효진, 김훈배, 박지수, 박대원, 정동근, 김대경, 채희엽

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2013 p.344

Low-Temperature Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Process for Growth of Graphene on Copper

장해규, 채희엽

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2013 p.433

Real-Time Small Exposed Area $SiO_2$ Films Thickness Monitoring in Plasma Etching Using Plasma Impedance Monitoring with Modified Principal Component Analysis

장해규, 남재욱, 채희엽

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2013 p.320

CF4/Ar 유도결합플라즈마의 저 유전상수 SiCOH 박막 식각에 미치는 RF 파워의 영향

김훈배, 오효진, 이채민, 하명훈, 박지수, 박대원, 정동근, 채희엽

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2012 p.402

In-situ Endpoint Detection for Dielectric Films Plasma Etching Using Plasma Impedance Monitoring and Self-plasma Optical Emission Spectroscopy with Modified Principal Component Analysis

장해규, 채희엽

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2012 p.153

Thin Film Morphology Control of P3HT:PCBM Organic Solar Cells Using Electrospray Deposition Process

황원태, 최수정, 채희엽

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2012 pp.432-433

Fault Detection with OES and Impedance at Capacitive Coupled Plasmas

최상혁, 장해규, 채희엽

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2012 p.499

Flowable Oxide를 이용한 저온 Flexible OLED 박막봉지 제작

용상현, 김대경, 김훈배, 조성민, 채희엽

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2012 p.249

Modified Principal Component Analysis for Real-Time Endpoint Detection of SiO2 Etching Using RF Plasma Impedance Monitoring

장해규, 김대경, 채희엽

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2011 p.32

신호대 잡음비를 활용한 플라즈마 식각공정의 실시간 다변량 통계적 종말점 검출

한경훈, 황진하, 박근주, 채희엽

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2009 p.254

TDMAS를 이용한 저온 산화막 PECVD 반응기에서의 노즐 위치 및 반응기 높이에 따른 반응 속도 특성분석 및 유동해석

김대경, 이재산, 이자혁, 한재현, 채희엽

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2009 p.318

유기태양전지의 표면처리를 통한 효율 향상

박근희, 장선기, 김금주, 정동근, 김형섭, 부진효, 이준신, 채희엽

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2007 p.42

The properties of low-k thin film deposited by PECVD using the mixed precursors of hexamethyldisiloxane and triethoxysilylallylethylether as the precursors

이성우, 도상민, 양재영, 정동근, 채희엽, 박건우, 이희우

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2007 p.125

Hexamethyldisiloxane과 Neohexane 단량체를 이용하여 플라즈마 중합된 저유전상수 갖는 박막의 증착파워 변화에 따른 특성연구

우지형, 이성우, 문미란, 정동근, 조상진, 부진효, 채희엽, 배근학

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2007 p.263

유기태양전지의 개발현황

방창현, 박근희, 정동근, 채희엽

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.16 No.3 2007 pp.167-171

ALCVD를 이용하여 표면 처리된 양전극을 갖는 유기 전기발광 소자의 특성

손선영, 박근희, 정동근, 김형섭, 부진효, 채희엽

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2006 p.125