BCl<SUB>3/Ar 유도결합 플라즈마 안에 CH<SUB>4 가스 첨가에 따른 건식 식각된 TaN 박막 표면의 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.26 No.5 2013 pp.335-340
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Ar/CF<SUB>4 유도결합 플라즈마에서 식각된 (Ba<SUB>0.6Sr<SUB>0.4)TiO<SUB>3 박막의 손상 감소
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.16 No.6 2003 pp.460-464
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Ar/CF<SUB>4 유도결합 플라즈마를 이용한 (Ba<SUB>0.6Sr<SUB>0.4)TiO<SUB>3 박막의 식각 특성
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.15 No.11 2002 pp.933-938
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CF<SUB>4O<SUB>2 gas 플라즈마를 이용한 폴리이미드 박막의 식각
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Vol.15 No.5 2002 pp.393-397
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$Ar/CF_{4}$ 유도결합 플라즈마로 식각된 $(Ba_{0.6}Sr_{0.4})TiO_{3}$ 박막의 특성분석
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2002 pp.16-19
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$Ar/CF_{4}$ 유도결합 플라즈마에서 식각된 $(Ba_{0.6}Sr_{0.4})TiO_{3}$ 박막의 손상 감소
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2002 pp.171-174
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$CF_4$ 첨가에 따른 polyimide 박막의 패터닝 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2001 pp.209-212
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$CF_4$ 첨가에 따른 po1yimide 박막의 패터닝 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2001 pp.209-212
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$O_2/CF_4$ 유도결합 플라즈마를 이용한 Polyimide 박막의 식각 특성
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 2001 pp.1509-1511
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