INFRARED ABSORPTION MEASUREMENT DURING LOW-TEMPERATURE PECVD OF SILICON-OXIDE FILMS
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.32 No.3 1999 pp.297-302
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STRUCTURE AND MACHANICAL PROPERTIES OF a-C:N MULTILAYER FILMS PREPARED BY ARC ION PLATING
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.29 No.5 1996 pp.512-518
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[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.29 No.5 1996 pp.577-584
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LOW TEMPERATURE DEPOSITION OF SILICON OXIDE FILMS BY UV-ASSOSTED RF PLASMA-ENHANCED CVD
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.29 No.6 1996 pp.773-780
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SYNTHESIS OF CARBON NITRIDE THIN FILMS BY PLASMA PROCESSING
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.29 No.5 1996 pp.363-370
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DEGRADATION OF Zn$_3$$N_2$ FILMS PREPARED BY REACTIVE RF MAGNETRON SPUTTERING
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.29 No.5 1996 pp.563-569
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LOW TEMPERATURE DEPOSITION OFSIOx FILMS BY PLASMA-ENHANCED CVD USING 100 kHz GENERATOR
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.29 No.6 1996 pp.760-765
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SPUTTER-DEPOSITION OF CARBON NITRIDE FILMS WITH HIGH NITROGEN CONCENTRATION
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.29 No.5 1996 pp.498-504
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EVALUATION OF WATER REPELLENCY FOR SILICON OXIDE FILMS PREPARED BY RF PLASMA-ENTRANCED CVD
[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회지 Vol.29 No.6 1996 pp.781-787
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XPS STUDY OF CARBON NITRIDE THIN FILMS PREPARED BY ARC ION PLATING METHOD
[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.4 1995 pp.613-617
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DEPOSITION AND CHARACTERIZATION OF YN THIN FILMS
[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.4 1995 pp.619-623
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PREPARATION OF SILICON OXIDE FILMS WITH HIGH WATER REPELLENCY BY RF PLASMA-ENHANCED CVD
[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e3 1995 pp.963-968
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