전화번호 0505-555-0740
e-mail: earticle@earticle.net
평일 09:00~18:00 / 점심 12:00~13:00 토.일요일 및 공휴일은 휴무입니다.
검색조건
좁혀보기 좁혀보기 초기화
결과 내 검색
Effects of Amorphous-silicon and Poly-silicon films on Within-Wafer Non-Uniformity (WIWNU) Improvement in Chemical Mechanical Polishing
Choi, Yoon-Kweon, Choi, Jae-Il, Park, Kyung-Woong, Paik, Un-Gyu, Park, Jea-Gun
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2006 p.16
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Effect of Organic Additives in Ceria Slurry on Enhanced Oxide-to-Nitride Removal Selectivity in Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing
Lee, Byeong-Seog, Kang, Hyun-Goo, Park, Kyung-Woong, Paik, Un-Gyu, Park, Jea-Gun
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2006 p.15
Reduction of Large Particles and Light Point Defects (LPD) by Aging and Selective Sedimentation Process in Ceria Slurry for Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing
Lee, Byong-Seog, Kang, Hyun-Goo, Park, Kyung-Woong, Paik, Un-Gyu, Park, Jea-Gun
0개의 논문이 장바구니에 담겼습니다.
장바구니로 이동 계속해서 검색하기
년 - 년