Etching characteristics of ZnO thin films using inductively coupled $BCl_3$/Ar and $Cl_2$/Ar plasma
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2004 p.226
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Etching characteristics of Ta and TaN using Cl2/Ar inductively coupled plasma
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2004 p.228
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