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A study of leakage characteristics in silicided p+/n shallow junctions using transmission electron microscopy (TEM) coupled with selective chemical etching
Choi, Chel-Jong, Seong, Tae-Yeon, Lee, Key-Min, Lee, Joo-Hyoung, Park, Young-Jin, Lee, Hi-Deok
[Kisti 연계] 한국현미경학회 한국현미경학회 학술대회논문집 2001 pp.92-96
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