NF3 / H2O 원거리 플라즈마 건식 세정에 의한 SiGe 표면 특성 변화
[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 반도체디스플레이기술학회지 Vol.19 No.2 2020 pp.45-50
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플라즈마 표면 처리를 이용한 TiO2 MOS 커패시터의 특성 개선
[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 반도체디스플레이기술학회지 Vol.18 No.1 2019 pp.32-37
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Optimizing Spacer Dry Etch Process using New Plasma Etchant
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2009 p.83
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NO gas 후속 열처리를 통한 Hf-silicate에 대한 연구
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2007 p.117
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질소 처리를 통한 Hafnium silicate 박막의 특성 평가
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2007 p.116
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DLC 필름의 마찰마모 특성의 습도 의존성에 대한 연구
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.15 No.3 2006 pp.287-293
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[Kisti 연계] 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 Vol.41 No.9 2004 pp.637-641
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A study of MOS ehayaeteristics of reoxidized $HfO_2$ thin film for gate oxide applications
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2001 p.71
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Co/Al 다층 박막 구조 시스템에서의 열처리에 따른 계면 반응에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국현미경학회 Applied microscopy Vol.30 No.3 2000 pp.249-254
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Co/Ti 다층 박막 구조 시스템에서의 계면 반응에 관한 연구
[Kisti 연계] 한국현미경학회 Applied microscopy Vol.29 No.2 1999 pp.255-263
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Sputter Seeding을 이용한 CVD Cu 박막의 비선택적 증착 및 기판의 영향
[Kisti 연계] 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 Vol.35 No.8 1998 pp.827-835
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