Thermal Stabilities of the Inductively Coulpled High Density Plasma CVD Oxide Films
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 1998 p.52
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$N_2O$ 플라즈마 열처리에 의한 저유전율 SiOF 박막의 물성 안정화
[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회지 Vol.8 No.4 1998 pp.317-322
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입체표면 폴리실리콘 전극에서 PECVD $Ta_2O_5$ 유전박막의 전기적 특성
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회지 Vol.2 No.2 1993 pp.246-254
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