Actinometric Investigation of In-Situ Optical Emission Spectroscopy Data in SiO2 Plasma Etch
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials Vol.13 No.3 2012 pp.139-143
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Virtual Metrology for predicting $SiO_2$ Etch Rate Using Optical Emission Spectroscopy Data
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.464
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$CF_4/O_2$ Plasma에 Ar첨가에 따른 $SiO_2/Si_3N_4$ 에칭 특성 변화
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2009 pp.127-128
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