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MICROSTRUCTURES AND ATOMIC BEHAVIORS OF SEVERAL METAL ELECTRODE SYSTEMS ON SiO_2$/Si ANNEALED IN $O_2 AND N_2$ AMBIENTS : Pt(POLY-Si, TiN, AND Ti), Ru/POLY-Si, AND Ir/(POLY-Si AND TiN)
Kim, Cha-Yeon, Kwon, Hyun-Ja, Kim, Hyun-Ha, Lee, Jeong-Soo, Jeon, Yoo-Chan, Whang, Chung-Nam
[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 1997 p.38
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