저전력 휴대용 통신단말을 위한 이온빔 처리된 HfO2 박막의 특성 연구
한국위성정보통신학회 한국위성정보통신학회논문지 제10권 제3호 2015.09 pp.89-93
4,000원
※ 기관로그인 시 무료 이용이 가능합니다.
Applicatons of high-k dielectric materials to magnetic tunnel junctions
[Kisti 연계] 한국자기학회 한국자기학회 학술대회논문집 2003 p.91
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Low k Materials for High Frequency High Integration Modules
[Kisti 연계] 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 Vol.46 No.4 2009 pp.413-418
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
Low k Materials for High Frequency High Integration Modules
[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2008 p.328
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
High Hydrogen Capacity and Reversibility of K-Decorated Silicon Materials
[Kisti 연계] 대한화학회 Bulletin of the Korean Chemical Society Vol.33 No.5 2012 pp.1719-1721
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
고유전체 박막에 형성된 Ge 나노크리스탈을 이용한 MOS 커패시터의 전기적 특성
[Kisti 연계] 대한전기학회 대한전기학회 학술대회논문집 2007 pp.1351-1352
협약을 통해 무료로 제공되는 자료로, 원문이용 방식은 연계기관의 정책을 따르고 있습니다.
0개의 논문이 장바구니에 담겼습니다.
- 구매 불가 논문
-