earticle

Influence of High-k Gate Dielectric on Nanoscale DG-MOSFET

S. K. Mohapatra, K. P. Pradhan, P. K. Sahu

보안공학연구지원센터(IJAST) International Journal of Advanced Science and Technology Vol.65 2014.04 pp.19-26

Analytical Modeling and Simulation for Dual Metal Gate Stack Architecture (DMGSA) Cylindrical/Surrounded Gate MOSFET

Ghosh, Pujarini, Haldar, Subhasis, Gupta, R.S., Gupta, Mridula

[Kisti 연계] 대한전자공학회 Journal of semiconductor technology and science Vol.12 No.4 2012 pp.458-466

gate stack구조를 이용한 LTPS TFT의 전기적 특성 분석

전병기, 조재현, 이준신

[Kisti 연계] 한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 학술대회논문집 2009 p.59

multi-stack gate dielectric 구조를 통한 LTPS TFT 특성

백경현, 정성욱, 장경수, 박형식, 이원백, 유경열, 이준신

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.200

Optimization of Gate Stack MOSFETs with Quantization Effects

Mangla, Tina, Sehgal, Amit, Saxena, Manoj, Haldar, Subhasis, Gupta, Mridula, Gupta, R.S.

[Kisti 연계] 대한전자공학회 Journal of semiconductor technology and science Vol.4 No.3 2004 pp.228-239

CMOS SCALING AND GATE STACK TECHNOLOGY PROGRESS

최리노

[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2008 p.3

Review of alternative gate stack technology research during the last decade

Lee, Byoung-Hun, Kirsch, Paul, Alshareef, Husam, Majhi, Prashant, Choi, Rino, Song, Seung-Chul, Tseng, Hsing Huang, Jammy, Raj

[Kisti 연계] 한국세라믹학회 세라미스트 Vol.9 No.4 2006 pp.58-71

Phase stability and Morphology of high-k gate stack of $Si/SiO_2/HfO_2$ and $Si/SiO_2/ZrO_2$

Lee, Seung-Hwan, Bobade, Santosh M., Yoo, W.J.

[Kisti 연계] 한국표면공학회 한국표면공학회 학술대회논문집 2007 pp.118-119

Stability of Sputtered Hf-Silicate Films in Poly Si/Hf-Silicate Gate Stack Under the Chemical Vapor Deposition of Poly Si and by Annealing

Kang, Sung-Kwan, Sinclair, Robert, Ko, Dae-Hong

[Kisti 연계] 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 Vol.41 No.9 2004 pp.637-641

중성빔 식각과 중성빔 원자층 식각기술을 이용한 TiN/HfO2 layer gate stack structure의 저 손상 식각공정 개발

연제관, 임웅선, 박재범, 김이연, 강세구, 염근영

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2010 p.406

Selective etching of Mo/$HfO_2$ in inductively coupled $Cl_2/O_2$ plasmas for gate stack patterning

Jung, H.Y., Kwon, B.S., Lee, H.J., Kim, S.I., Kim, H.W., Lee, N.E.

[Kisti 연계] 한국진공학회 한국진공학회 학술대회논문집 2008 p.209

EPD time delay in etching of stack down WSix gate in DPS+ poly chamber

Ko, Yong Deuk, Chun, Hui-Gon

[Kisti 연계] 한국반도체및디스플레이장비학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회논문집 2002 pp.130-136

Turn-on Loss Reduction for High Voltage Power Stack Using Active Gate Driving Method

Kim, Jin-Hong, Park, Joon Sung, Gu, Bon-Gwan, Won, Chung-Yuen

[Kisti 연계] 대한전기학회 Journal of electrical engineering & technology Vol.12 No.2 2017 pp.632-642

SiO2/CVD-HfAlO/Pt-electrode gate 구조에서 H-termination효과 및 전기적 특성의 관찰

최지훈, 이치훈, 박재후, 이석우, 황철성, 김형준

[Kisti 연계] 한국재료학회 한국재료학회 학술대회논문집 2003 p.58