NOVEL ALICYCLIC OLEFIN POLYMERS FOR MUTI-WAVELEGTHS PHOTO RESISTS
[Kisti 연계] 한국광과학회 한국광과학회 학술대회논문집 1999 pp.51-52
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21C Korean Lithography Roadmap
[Kisti 연계] 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회논문집 1999 pp.269-274
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TYNGSTEN ETCHBACK PROCESS FOR SUB-HALF MICRON CONTACTS USING HELICON HIGH DENSITY PLASMA
[Kisti 연계] 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Vol.2 No.e1 1995 pp.761-766
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